@nm80hits
ZRemesherを使うとトポロジーそのものが変化しているため、UVのデータが消えてしまうため、
リトポを行ったモデルにそのままUVを再現することはできません。(原理的にも元のポリゴンから削減などをおこなっているわけではなく、頂点番号などが全部変わってしまっているので。)
ただ、元のモデルのテクスチャを一度ポリペイントに変換、複製を行ったのち、モデルにリトポロジーをかけ、UVを展開後、元のモデルからポリペイント情報を転写し、テクスチャ化をするという方式であれば「テクスチャだけを利用する」という点では可能となっております。ただ、この場合でも、UVは新規で作成を行う必要があります。
また、単純にポリゴン数を削るというものが目的である場合には、Decimation MasterにはUV保持のオプションがありますので、用途に合わせて使い分けを行うことが必要となっております。
どのようなデータを作っているかにもよるのですが、スキャンデータでもない限りは基本形状が完成するまでUV展開、テクスチャ付を行わないほうが良いと思います。またスキャンデータのUV展開であれば、アトラス形式だと思うので、そもそものUV展開が綺麗でないので、この際、UV展開をし直したほうが良いと思います。
また、ワークフローによっては、UV展開を行ったローモデルに対してベイク用のハイポリゴンモデルを用意している場合には、直接ローモデルの操作を行うのではなく、別途そこからハイモデルを作成し、他ソフトにてベイクを行う用に調整を行うなどの手法を取り入れる必要があると思います。
ZBrushを用途にあわせ、有効に利用するには、ワークフロー全体の見直しが必要だと思いますよ。